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近日，土木工程与力学学院樊学平和刘月飞副教授发表在工程结构相关领域研究期刊《Structures》的论文被“工程进展”（Advances in Engineering，AIE）遴选为“卓越工程”有显著贡献的科学论文。这是两位老师2023年在该期刊发表的论文第二次获此荣誉。
光刻是一种高精度制造技术，广泛应用于半导体行业。基于光刻的硅基电子制造工艺已达到5纳米技术节点，单颗芯片上晶体管数量已达百亿级。相比之下，基于溶液法加工的有机电子学微型化远远落后于硅基电子学。现有印刷有机电路的晶体管密度往往只有60 units cm-2。通过光刻加工有机电路所有部件（如有机半导体、电介质和导体）的全光刻工艺方案无疑是推进有机电子学微型化和高密度集成的有效手段。