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利用新发展的小入射角沉积(SIAD)技术在玻璃衬底上自组装制备了图案化金属铜膜. 利用金相显微镜(MM)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)/选区电子衍射(SAED)/能量弥散X射线光谱仪(EDX)以及X射线衍射仪(XRD)等技术对所制备的图案化金属铜膜进行了表征. 通过分析对比SIAD和垂直入射沉积(NID)铜沉积物的形貌和结构差异, 揭示了图案化金属铜膜的形成机理.
2005年8月18日至8月22日,在清华大学举行中国第五届研究生电子设计竞赛,微固学院三名研究生组成的电子科技大学一队获得团体铜奖和2个个人奖的好成绩。电子科技大学一队由微固学院研究生组成,指导老师:李平教授;领队:王劲老师;队员:汤江逊、宋宇、车胜同学。中国研究生电子设计竞赛,是中国博士研究生和硕士研究生最高水平的顶级赛事,旨在选拔、培养我国优秀的电子设计人才,为我国从一个电子产品的生产大国,转...

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