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PMMA基底含氢非晶碳膜的结构和摩擦学性能
无机非金属材料 含氢非晶碳
2009/3/11
分别用磁控溅射和等离子体增强化学气相沉积方法在PMMA基底上沉积硅膜和含氢非晶碳(a-C:H)膜.用氩离子溅射硅靶制备硅膜, 以甲烷和氢气为反应气体在不同自偏压下制备非晶碳膜.分别用原子力显微镜、X射线光电子能谱和紫外拉曼光谱表征薄膜的形貌和结构,
并分别用纳米压痕仪和栓盘摩擦磨损试验机测试其机械和摩擦学性能. 结果表明,
沉积碳膜的PMMA基底呈现出高硬度、低摩擦系数和低磨损率的特性. 碳膜...
单分散球形硫化镉膜的电化学沉积
无机非金属材料 硫化镉/球型 电沉积
2009/3/2
提出一种在ITO玻璃上电化学沉积制备单分散近球形硫化镉粒子的新方法.在S-CdCl_2-DMSO电沉积体系中加入少量的水制备出单分散膜层,调节沉积电流,电沉积时间或Cd~(2+)浓度可以改变膜层的粒子分布密度.结果表明,在电沉积的整个ITO玻璃表面上均分布有硫化镉沉积,且不同厚度膜层上的沉积其S与Cd的原子比不同.在电沉积硫化镉膜层上蒸镀铜酞菁制备出p-n异质结,其Ⅰ-Ⅴ特性表明,单分散近球形硫化...
壳聚糖/羟基磷灰石引导组织再生膜材料的制备和性能
壳聚糖 羟基磷灰石 交替沉积
2009/2/11
用生物矿化交替沉积法成功在CS基质膜表面构建HA涂层,并进行了表征.结果表明,HA含量随着沉积循环数增加而增加,且在4个循环后基本达到饱和,饱和含量为8.8%;随着沉积循环数增加HA由均一颗粒状转变为无规则平板状;拉伸强度由纯CS膜的68.6 MPa降低到沉积5个循环后的46.9 MPa.控制沉积数可调控HA的含量、形貌和力学强度,以满足引导组织再生术需要.
离子轰击能量对ZrN/TiAlN纳米多层膜性能的影响
无机非金属材料 离子束辅助沉积(IBAD)
2009/2/11
使用超高真空离子束辅助沉积系统(IBAD)制备一系列具有纳米调制周期的ZrN/TiAlN多层膜,研究了离子辅助轰击对薄膜性能的影响.结果表明:离子辅助轰击使大部分ZrN/TiAlN多层膜的纳米硬度和弹性模量值高于两种个体材料硬度的平均值;离子的轰击和薄膜表面原子与轰击离子之间的动量传输提高了薄膜的致密度;当轰击能量为200 eV时,多层膜的硬度最高(30.6 GPa),弹性模量、表面粗糙度和摩擦系...