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用直流辉光等离子体化学气相沉积制备金刚石厚膜,用氢的微波等离子体对其抛光截面进行刻蚀,研究了晶界对金刚石厚膜耐磨性的影响.结果表明:在金刚石膜的生长过程中,随着甲烷流量的增加,金刚石膜的晶界从纵向排列为主过渡到网状结构,晶粒内部缺陷逐渐增加,杂质、空洞主要分布于晶界处.金刚石膜的磨耗比随着晶界密度、宽度、杂质含量及晶粒内部缺陷的增加而下降.晶界是杂质、空洞主要富集区,是影响金刚石厚膜耐磨性的主要因...
金刚石在所有材料中有多项性能指标都是第一或最好的,美国早在1995年就将金刚石薄膜制备技术列为对国家安全和发展起至关重要作用的“二十七个重点项目”之一。 目前在所有制备金刚石膜方法中的微波法属于无电极放电,产生的等离子体纯净,工艺参数可以精确控制,因而该方法是大面积,高速度, 高质量制备高品质金刚石膜的首选方法。本研究利用实验室独有的大功率微波等离子体化学气相沉积装置对金刚石膜制备进行了以下几...

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