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图案化金属铜膜的SIAD法自组装制备
图案化金属铜膜 小入射角沉积(SIAD) 定向压应力 层-线状生长 自组装制备
2013/8/7
利用新发展的小入射角沉积(SIAD)技术在玻璃衬底上自组装制备了图案化金属铜膜. 利用金相显微镜(MM)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)/选区电子衍射(SAED)/能量弥散X射线光谱仪(EDX)以及X射线衍射仪(XRD)等技术对所制备的图案化金属铜膜进行了表征. 通过分析对比SIAD和垂直入射沉积(NID)铜沉积物的形貌和结构差异, 揭示了图案化金属铜膜的形成机理.
熔石英表面铜膜污染物诱导损伤实验研究
熔石英 污染物 铜膜 表面损伤
2009/8/21
在熔石英元件表面溅射一层厚度小于10 nm的金属铜膜污染物，并测试元件的透过率。测试355 nm熔石英元件的激光损伤阈值，并用光学显微镜观测损伤形态。实验结果表明：污染后的熔石英元件的损伤阈值降低20%左右，元件表面的金属污染物薄膜经强激光辐照，在熔石英表面形成很多坑状微损伤，分布不均的热应力导致表面起伏，并有明显的烧蚀现象，导致基底损伤阈值下降。建立的光吸收和热沉积传输模型初步解释污染物膜层导致...
基底结构对磁控溅射铜膜电磁屏蔽效能的影响
磁控溅射 铜膜 电磁屏蔽效能 导电网络
2010/4/20
用直流磁控溅射法分别在涤纶机织布、针织布、纺粘非织造布表面制备铜薄膜，并用频谱分析仪与专用波导管测试所得样品在100 MHz~1.5 GHz之间的电磁屏蔽效能，用扫描电镜观察溅射样品的表面形貌，用显微镜观察基底布孔隙，并对结果进行比较分析。发现基底布表面结构形貌与孔隙对屏蔽效能均产生影响，前者更为显著。根据导电网络的连续性、几何结构的立体性及紧密程度、孔隙及未沉积的涤纶空白表面的几何结构对表面电阻...
脉冲激光引起铜膜镜面的环形损伤波纹研究
激光效应 激光损伤 光学表面 波纹
2008/4/30
用波长1.06μm、半高宽10ns的脉冲Nd:YAG激光辐照铜膜镜面，在激光辐照区，用光学显微镜观察到有规律的环形波纹状损伤图案，波纹平均周期约几十μm。通过对光路系统分析，认为样品前的小孔光阑对激光产生了菲涅尔衍射，使得在样品表面光强分布变成周期性环状分布。在极短的相互作用时间内，热扩散很小，损伤图案依赖于光强分布。并依据实验参数，用柯林斯公式对样品表面的光强分布进行了计算，所得光强分布的周期与...
生长铜膜中孪晶形成与出现几率的分子动力学模拟
铜膜 孪晶 分子动力学
2007/12/27
运用分子动力学和静力学方法对,生长铜膜中孪晶形成的原子过程与能量进行了模拟研究. 所用的原子间相互作用势为Finnis-Sinclair型镶嵌原子法(EAM)势. 模拟和计算分析结果表明, 生长铜膜表面沉积原子在不同局部可形成正常排列的fcc畴或错排的hcp畴；沉积原子处于hcp位置时体系的能量比fcc位置时要高, 其增量决定了孪晶面出现几率. 沉积原子错排能还受相邻{111}孪晶面的影响,其间距...
纳米晶铜膜的原位拉伸研究
纳米晶铜膜 原位拉伸 塑性变形
2007/10/26
文章摘要：
用磁控溅射在醋酸纤维基片上获得纳米晶(20-30nm)铜膜. 在透射电镜下原位拉伸的结果表明, 在加载裂尖前存在由局部塑性变形引起的减薄带, 微孔洞在减薄带中形核. 导致主裂纹扩展的孔洞长大和连接过程也与局部塑性变形有关.