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SiC抛光片表面氧化行为的XPS、SEM研究
XPS 氧化行为 SiC抛光片
2008/5/9
本文利用扫描电子显微镜和X光电子能谱研究SiC抛光片表面氧化行为，发现Si面比C面的氧化更显著，产生更多的氧化产物，提出利用扫描电子显微镜和X光电子能谱来鉴别SiC晶片的Si面和C面的新方法。
XPS表征类金刚石膜探讨
金刚石膜 XPS
2008/5/9
介绍X射线光电子能谱(XPS)分析类金刚石(DLC)膜的原理与方法，探讨分峰拟合计算时参量设定对分析结果的影响，改进拟合方法，拟合结果更准确，结果的一致性好。
镀锡马口铁表面污染的XPS分析
XPS分析 镀锡马口铁表面污染
2008/5/7
本文利用XPS方法对受海水浸泡的镀锡马口铁进行了表面分析。结果表明,经海水浸泡及在海水蒸气下放置的镀锡马口铁表面都会受到不同程度的污染。同时也表明,XPS作为一种重要的表面分析技术将会在商品检验和产品检验中得到有效地应用。
利用XPS研究紫外光激发下GaAs晶片表面氧化反应
GaAs晶片 紫外光 XPS
2008/5/6
本文用XPS分析紫外光激发氧化反应后砷化镓表面的化学组成和氧化层厚度。发现， 紫外光激发下， GaAs表面生成氧化膜，同时清除表面污染碳。氧化膜中的镓砷比可以 与基体完全保持一致。用此方法获得具有一定的化学稳定性的，适合于器件制备的钝化层 。发现紫外光激发的砷化镓表面氧化反应的实质是光催化反应。用“紫外光/臭氧处理法” 处理的GaAs晶片，可使器件性能得到改善。