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锑化物半导体激光器在中红外波段具有广泛的应用前景。针对目前GaSb基材料的刻蚀工艺存在的问题，对现有的GaSb基材料的湿法刻蚀工艺进行了改进，实验分别用氢氟酸系和磷酸系对GaSb材料进行湿法刻蚀，并在两种酸系溶液中分别加入酒石酸进行对比试验。实验分析表明，这两种腐蚀液对GaSb材料都有较好的刻蚀效果，腐蚀速率稳定，适当调整腐蚀液组分可以调控腐蚀速率，刻蚀后形貌良好，材料表面平整光滑。其中氢氟酸系加...
