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搜索结果: 1-3 共查到材料科学 铜膜相关记录3条 . 查询时间(0.13 秒)
运用分子动力学和静力学方法对,生长铜膜中孪晶形成的原子过程与能量进行了模拟研究. 所用的原子间相互作用势为Finnis-Sinclair型镶嵌原子法(EAM)势. 模拟和计算分析结果表明, 生长铜膜表面沉积原子在不同局部可形成正常排列的fcc畴或错排的hcp畴;沉积原子处于hcp位置时体系的能量比fcc位置时要高, 其增量决定了孪晶面出现几率. 沉积原子错排能还受相邻{111}孪晶面的影响,其间距...
文章摘要: 用磁控溅射在醋酸纤维基片上获得纳米晶(20-30nm)铜膜. 在透射电镜下原位拉伸的结果表明, 在加载裂尖前存在由局部塑性变形引起的减薄带, 微孔洞在减薄带中形核. 导致主裂纹扩展的孔洞长大和连接过程也与局部塑性变形有关.
在JGP560V磁控溅射镀膜设备上镀制多晶铜膜,利用纳米压入技术测量了其室温下的蠕变性能。 结果表明: 由于不同加载方式下, 材料加工硬化程度的不同造成了应力指数的差异, 因而, 不同加载方式对测得的铜膜蠕变应力指数有比较大的影响;由于材料在高载荷时在压头下端产生更多的位错, 阻碍了压头的压入, 使蠕变率降低, 因而, 随着保载载荷的升高, 蠕变应力指数变大。

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